辉光放电光谱仪是解密镀层工艺、解析镀层结构的强有力手段，可以通过元素变化获得镀层结构、层间扩散、元素富集、表面处理、镀层均一性等信息，从而改善工艺条件等。主要应用行业有金属冶金、半导体器件、LED芯片、薄膜太阳能电池、锂电池正负极、光学玻璃、核材料等。²  GD-OES 8000主要用于分析深度达200 μm的涂层，表面分辨率为1nm，较深区域的相对分辨率为10%，还能够进行基体总量分析，尤其对于复杂基体，具备优异的线性校准曲线。检测限在0.1到10ppm之间。²  GD-OES 8000 配备了新一代的辉光放电激发源，溅射直径为1mm至7mm。GD-OES 8000也可选装配置脉冲式射频光源 (选装件)，用于分析非导体材料。采用脉冲式射频光源后，可分析非导体、热敏感样品，如：陶瓷、玻璃、有机涂层、有机薄膜。还可选装配置特殊样品转移室(选装件)，用于分析极薄的薄膜和在空气中易氧化的薄膜。²  GD-OES 8000冷光源使得具有最低的背景干扰，采用原子谱线进行分析。²  GD-OES 8000光谱分辨率优于20pm(FWHM)，光谱范围：120nm--800nm，焦距800mm，采用全息原刻光栅，2400线/mm；可同时安装55个分析通道，方便易操作的透镜清洁，可立即进行分析；优化的检测器高压系统，定量测试时，线性动态范围ppm – 100%；检测器增益自动调节。²  GD-OES 8000可应用于：1)       热化学处理，精确测量所关心元素的含量-深度分布，定性、定量检测表面污染物、夹杂物和物相比例；2)       涂镀层，可获得涂镀层完整的化学组分信息、层厚度，元素含量-深度分布。非导体涂镀层，如：油漆、釉等可采用RF光源分析；3)       硬质合金层，快速分析硬质合金层和热处理工件的渗层化学组分；陶瓷，采用RF光源可精确可靠的测量；4)       电镀，测量电镀层的复杂结构和过渡界面信息，化学组分含量、层厚、质量分布，也可进行缺陷鉴别和分析；5)       化学组分，精确测量化学元素含量，高精度、高重复性检测，快速分析：<60s，可分析从H至U的所有元素， 检测范围从ppm至100%6)       太阳能电池薄膜，检测太阳能光伏电池薄膜中化学元素含量分布，如：Cu(In，Ga)Se2